1月16日消息，苹果iphone全面屏设计的最大挑战在于屏下face id技术。face id依赖于深感摄像头投射并分析大量点来捕捉精准人脸数据。目前，红外摄像头和点阵投影器等核心组件难以完全隐藏于屏幕下方，导致苹果不得不采用“药丸屏”方案。
然而，最新报道显示，苹果已获得一项屏下Face ID专利，攻克了这一技术难题。
屏下Face ID的核心在于提升红外光的透光率。虽然红外光能穿透屏幕，但透射率极低，直接放置于面板下方会显著降低识别速度和可靠性。
苹果的专利方案巧妙地解决了这个问题。通过移除部分子像素，让红外光顺利穿过OLED面板。由于每个像素由红、绿、蓝三个子像素组成，苹果移除的是相同颜色的相邻子像素，而不会影响用户视觉体验，因为系统会利用相邻子像素的颜色混合来补偿缺失部分，确保显示效果的完整性。
该方案预计最早将于2026年应用于iPhone 18系列，届时，iPhone将采用单挖孔屏设计，彻底告别“药丸屏”。
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